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【評価・分析装置】

  装置名 説明
SPM9700 走査型プローブ顕微鏡
(SPM, Scanning probe microscope)
Shimadzu SPM9700
試料表面の原子間力(Atomic force microscope, AFM、コンタクト・ダイナミック)、電流、磁気力、表面電位、水平力観察が可能。アクティブ除振台使用。
XE70  走査型プローブ顕微鏡
(SPM, Scanning probe microscope)
Park Systems XE70
試料表面の原子間力(Atomic force microscope, AFM、コンタクト・ダイナミック)観察が可能。大面積のサンプル測定が可能。アクティブ除振台使用。
XT 触針式段差計
(Stylus profiler)
Bruker DektakXT
薄膜の膜厚を測定
max 高精度比表面積・細孔分布・ガス吸着測定装置
(Specific surface area, pore size distribution and vapor adsorption measurement)
Bel Japan BELSORP-max
 
TGA50  熱重量分析装置
(TGA, Thermogravimetric analysis)
Shimadzu TGA50
 固体・液体試料の熱重量変化を測定。
HUM 水蒸気雰囲気熱重量示唆熱同時分析装置
(Humidity-controlled TG-DTA, Humidity-controlled thermogravimetric and differential thermal analysis)
Rigaku Thermo Plus EVO2 TG-DTA/HUM-1
熱重量示差熱同時分析装置と水蒸気発生装置を組み合わせて水蒸気雰囲気でTG-DTA測定を行う装置。プログラムされた温度・相対湿度環境中でプロトン伝導材料などの水分子の出入りなど高感度で測定可能。
 EVO2  熱重量示唆熱同時分析装置
(TG-DTA, Thermogravimetric and differential thermal analysis)
Rigaku Thermo Plus EVO2/TG-DTA
 空気、不活性ガス条件で試料の熱重量変化と示差熱を同時に測定。
 DSC 示差走査熱量計
(DSC, Differential scanning calorimetry)
Rigaku Thermo Plus EVO2/DSC
 材料の熱履歴を測定します。電子冷却システムにより低温(-50℃から)測定可能。
 XRD1  デスクトップ粉末X線分析装置
(XRD, X-ray powder diffraction analysis)
Rigaku MiniflexII
 高速1次元検出器により高感度・短時間で測定できます。
 600  デスクトップ粉末X線分析装置
(XRD, X-ray powder diffraction analysis)
Rigaku Miniflex600
 高速1次元検出器により高感度・短時間で測定できます。サンプルを加熱(温度制御、200℃まで)しながら測定することができます。
 XRD2 粉末X線分析装置
(XRD, X-ray powder diffraction analysis, thin film diffraction, in-plane scattering )
Rigaku SmartLab
高速1次元検出器により高感度・短時間で測定が可能。薄膜測定仕様でインプレーン測定が可能。
 XRF デスクトップ波長分散型蛍光X線装置
(XRF, Wavelength-dispersive X-ray fluorescence spectrometry)
Rigaku Primini
固体試料の元素分析に使用。波長分散型のため定量性を求める場合にも使用可能。
 Q600 熱重量示唆熱同時分析装置
(TG-DTA(DSC), Thermogravimetric and differential thermal analysis)
TA Instruments SDTQ600
質量分析装置(GC-Mass)
JEOL JMS-Q1050GC:
 不活性ガス条件での試料の熱重量変化と示唆熱分析が可能。また、熱重量減少に伴って発生した気体の質量同時分析が可能。質量分析では、イオン化方式は光イオン化(PI)と電子イオン化(EI)の両方が可能。PIの搭載により、有機分子のフラグメンテーションが極端に抑制され、強いペアレントシグナルを高感度で検出可能。
 1296  交流インピーダンス・誘電率測定装置
(AC impedance/gain analyzer equipped with a dielectric interface and a temperature/humidity chamber)
Solartron 1296 Dielectric interface
Solartron 1260 impedance/Gain analyzer
Agilent 4294A Precision Impedance Analyzer(高周波数用)
 サンプルのイオン伝導測定で主に使用。
下記、環境試験機と同期させ、湿度・温度変化によるイオン伝導度測定を行う。
 SH221 環境試験機(2台)
Espec SH-221and SH-222 Bench-top Type Temperature&Humidity Chamber::
環境試験機中で温度と湿度を制御可能。
上記、交流インピーダンス装置と同期させ、サンプルのイオン伝導度を測定。
 DLS 動的光散乱粒子径・ゼータ電子測定装置
(DLS/zeta-potential, Dynamic light scattering and zeta-potential analysis)
Otsuka electronics Zeta-potential&Particle size analyzer ELSZ-1000
溶媒中に分散している粒子(ナノメートルからミクロン粒子まで)の粒子径の測定が可能。また、粒子の表面電位も測定可能。 
 DLS  動的光散乱粒子径・ゼータ電子測定装置
(DLS/zeta-potential, Dynamic light scattering and zeta-potential analysis)
Otsuka electronics Zeta-potential&Particle size analyzer ELS-Z2M
 溶媒中に分散している粒子(ナノメートルからミクロン粒子まで)の粒子径の測定が可能。また、粒子の表面電位も測定可能。
 UV3600 紫外可視近赤外分光光度計
(UV-Vis-NIR spectroscopy)
Shimadzu Spectrophotometer UV-3600

 紫外線から近赤外線までの幅広い領域での吸収スペクトル測定、固体反射スペクトル測定(拡散反射測定ユニット)、鏡面反射測定(鏡面反射測定ユニット)が可能。温度可変ユニット(Temperature Controlled Cell Holder TCC-240A)を利用した測定も可能。ハンドヘルド電気化学アナライザー(ALS Elecrochemical Aanalyzer 1200B)を利用した電気化学分光測定も可能。
 UV2600 紫外可視分光光度計
(UV-Vis spectroscopy)
Shimadzu Spectrophotometer UV-2600
 紫外線から可視光までの領域での吸収スペクトル測定、固体反射スペクトル測定(拡散反射測定ユニット)が可能。温度可変ユニット(Temperature Controlled Cell Holder TCC-240A)を利用した測定も可能。ハンドヘルド電気化学アナライザー(ALS Elecrochemical Aanalyzer 1200B)を利用した電気化学分光測定も可能。
 ISR  拡散反射測定ユニット(2台)(Integrating sphere attachment for diffuse reflection measurement)
Shimadzu ISR-3100 (Shimadzu Spectrophotometer UV-3600)、
ISR-2600PULS(Shimadzu Spectrophotometer UV-2600) 
 
 Ref  鏡面反射測定ユニット
(Shimadzu specular (mirror) reflection attachment)
 
 TCC  電子冷熱式温度可変ユニット
(Temperature Controlled Cell Holder TCC-240A)
 
 1200B  ハンドヘルド電気化学アナライザー
ALS Elecrochemical Aanalyzer 1200B
 
 8453 フォトダイオード分光光度計
(UV-Vis spectroscopy (photodiode))
Agilent 8453
 電子冷熱式温度可変ユニット(Agilent 89090A)を利用した測定も可能。ハンドヘルド電気化学アナライザー(ALS Elecrochemical Aanalyzer 1200B)を利用した電気化学分光測定も可能。
 USB4000 フォトダイオード分光光度計
(UV-Vis spectroscopy (photodiode))
Ocean Optics USB 4000、DH-2000 UV-VIS-NIR Lighting Source
 光ファイバー方式で、紫外可視光全領域の吸収スペクトルを瞬時に測定可能。電気化学測定と併用して使用。
 6700  フーリエ変換赤外分光光度計
(FT-IR spectroscopy)
Thermo Scientific Nicolet 6700
 MCT検出器が搭載されており、高感度の測定が可能。ダイヤモンドATRユニット、反射測定ユニット、透過測定ユニットによる多様な測定が可能。偏光ユニットを用いた赤外線偏光測定も可能。
 4100  フーリエ変換赤外分光光度計
(FT-IR spectroscopy)
Jasco FT/IR 4100
 
 F7000  分光蛍光光度計
(Fluorescence spectroscopy)
Hitachi Fluorescence Spectrophotometer F-7000。
 高速三次元マッピングが可能。積分球により、蛍光量子収率の測定も可能
 Tau  蛍光寿命測定装置
(Fluorescence lifetime measurement)
Hamamatsu Photonics Compact fluorescence lifetime spectrophotometer C11367 Quantaurus-Tau、
 複数の波長で励起し、溶液や薄膜の励起寿命が測定可能。
 SMU  電界効果トランジスター特性評価装置
(FET, Field effect transistor measurement)
Agilent B2902A Precision Source/Measure Unit
 
 EQCM  EQCM
(Electrochemical Quartz Crystal Microbalance)
Seiko EG&G, QCA922
+Princeton Applied Research, Potentiostat/Galvanostat Model 263A、
 電位を制御しながら周波数変化(質量変化)測定が可能。
 608  電気化学アナライザー
ALS 608EDN Electrochemical Analyzer、
ALS 608C Electrochemical Analyzer、
ALS 608C Electrochemical Analyzerで高電圧・電流対応。
 --- 回転リングディスク装置
ALS Rotating Ring Disk Electrode RRDE-3A。
フルモードで各種電気化学テクニックによる測定が可能
 1100P 電気化学アナライザー
ALS 1100P Electrochemical Analyzer
 
 HSV110" 電気化学アナライザー
Hokuto Denko HSV-110 Automatic Polarization System
 
 BID ガスクロマトグラフ
(Gas chromatograph (BID):Shimadzu Tracera
BID検出(バリア放電イオン化検出器)でヘリウム以外の無機・有機ガスを同時に検出・定量可能。電気化学アナライザー(Hokuto Denko HSV-110)を利用して電気分解生成物(ガス)を直接、ガスクロマトグラフで分析。
 2014 ガスクロマトグラフ
(Gas chromatograph (FID))
Shimadzu GC-2014
 FID検出で有機ガスの検出・定量に使用。
 705RS  表面抵抗(シート抵抗)測定装置
(Sheet-resistance measurement)
Kyowariken K-705RS
 4探針法により、主に、金属ナノ微粒子塗布膜のシート抵抗を測定。
 PEC 太陽電池評価装置(太陽光シミュレーター、作用スペクトル測定装置、解析装置)
(Solar simulator)
Peccell PEC-L01, Peccell PEC-S20, Kethley2400
 *理学部に設置された共通機器
 ControAA 原子吸光分析装置
(AAS, Atomic absorption spectrometry)
Analytik Jena ContrAA 700
ホロカソードランプを必要しない分光方式の分析装置。
*理学部で予算措置された共通機器
 AS 原子吸光測定用固体オートサンプラー 複数の固体試料をそのまま原子吸光分析可能。
 VM10A 粘度計
(Viscometer)
CBC, Model VM-10A
振動タイプで小粘度から中粘度のサンプルの粘度を測定。
 TKS ホール効果測定装置
(Hall effect measurement system)
東栄科学産業 TOEISCI TKS-HE-1000-20mm-C
 
【合成・前処理装置】
  装置名 説明
 start  マイクロ波試料前処理装置
(Microwave extraction/synthesis) 
Milestone START D
高圧対応テフロン容器を使い、難分解試料にマイクロ波照射・分解。主に原子吸光測定用のサンプル作製に使用。温度プログラム制御によりマイクロ波合成にも使用可能。
 260F 蒸着装置
(Vacuum deposition)
Ulvac Kiko VPC-260F
金、銀、アルミ、チタン等の蒸着
*理学部で予算措置された共通機器
 --- マグネトロンスパッタ装置
(Magnetron sputtering):
Sanyu Denshi. SC-701MKII ADVANCE
マグネトロン方式により基板上に金属薄膜を作製。ターボポンプでの真空制御により、チタン、アルミの薄膜も作製できます。
 MC マグネトロンスパッタ装置
(Magnetron sputtering)
Sanyu Denshi. SC-701MC
マグネトロン方式により基板上に金属薄膜(金・銀用) を作製。
 SEDE プラズマエッチング装置
(Plasma etcher)
Meiwa fosis, SEDE
(大気)プラズマを発生させ、ガラス基板など各種基板の親水化処理ができる。
 A100 スピンコーター
(Spin coater)
Mikasa MS-A100
 
 35951 スピンコーター
(Spin coater)
Kyowariken K-35951
 
 ARE310 自転・公転ミキサー
(Planetary centrifugal mixer)
Thinky ARE-310
低粘度から高粘度までの様々な材料において攪拌・分散と脱泡の同時処理ができます。
 MILA5000 水冷式赤外線ランプ加熱装置
(Infrared heater)
Ulvac MILA5000, YMC YMH-500
大気、不活性ガス雰囲気等、水素交合ガス雰囲気条件で試料を高速加熱焼成可能。
 YMH500 水素発生機
(Hydrogen generator)
YMC YMH-500
 
 700AR 空冷式赤外線ランプ加熱装置
(Infrared heater)
Ulvac MILA700AR
大気、不活性ガス雰囲気等、水素交合ガス雰囲気条件で試料を高速加熱焼成可能。
 --- 水素発生機
(Hydrogen generator)
Horiba Hydrogen Generator OPGU-2100
 
 EF1 電気炉(Electric furnace) 4台あります。
 EF2 電気炉(Electric furnace) 2台あります。
 EF3 管状炉(Electric furnace) 不活性ガス条件で試料を加熱可能。
 --- 減圧ガス置換石英管加熱炉
(Vaccum furnace)
FT-01VAC-50
減圧・ガス置換しながら高速度温度上昇による加熱が可能。石英ガラスチャンバーのため、サンプルの加熱の様子を観察できます。
 113 大型環境試験機
(Temperature/humidity chamber)
Espec LHL-113
湿度と温度を制御しながらサンプルの環境耐性の評価。
 --- エバーポレーター
(Vacuum evaporator) 
Iwaki REN-100 & BUCHI V-700
ダイヤフラムポンプで圧力をプログラム制御。
 MT スクリーン印刷機
(Screen printing)
Microtec MT-Mini
 
 CVE3100 遠心エバーポレーター
(Centrifugal evaporator)
EYELA CVE3100
遠心しながら、溶液を濃縮します。ダイヤフラムポンプで圧力をプログラム制御。
 KPI アルミブロックタイプ加熱撹拌機
(Hotting stirrer)
KPI LHE-19G-US III (低温用 ~200ºC)
KPI LHE-19G-US IV(高温用 ~300ºC)
アルミブロックを用いて加熱・撹拌。10台あります。油浴を使わないで安全に高温で加熱攪拌。
 AC" ポータブルリアクター(耐圧反応容器)
(autoclave)
多様なガスを用い、高圧条件で反応。例えば、金属ナノ微粒子の触媒作用(有機物の水素添加反応)に使用。
 7800 大型高速冷却遠心分離機
(Centrifugal separator)
KUBOTA 7800 II
500mLの遠心容器で大量に遠心分離可能。
 MX307 冷却高速遠心分離機
(Centrifugal separator)
TOMY MX-307
 
 3780 冷却高速遠心分離機
(Centrifugal separator)
KUBOTA 3780
 
 2800 デスクトップ冷却遠心分離機
(Centrifugal separator)
KUBOTA 2800
 
 5417R デスクトップ冷却高速遠心分離機
(Centrifugal separator)
Eppendorf Centrifuge 5417R
 
 UT1000 真空加熱乾燥器
(Vacuum drying oven)と冷却トラップ(EYELA UNI TRAP UT-1000)
真空加熱乾燥器2台を1台のロータリーポンプで減圧、試料を乾燥。乾燥中に発生した気体は冷却トラップでとトラップ。
 RPB2 ボールミル
(Ball mill)
Tanaka Tec RPB-2, Irie shokai V-IMLなど
 
 excimer エキシマ―照射装置
(Excimer lamp)
Ushio Miniexcimer
ガラス表面や樹脂表面の改質(親水化)で使用。
【その他】
  装置名 説明
 --- 精密電子天秤
BM-20
最小表示 0.001 mg
 --- 防爆冷蔵庫 医薬用外劇物を冷蔵・冷凍で保管できる鍵付き。